ПЖТФ, 2007, том 33, выпуск 16

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск   KOI  WIN  DOS 

Исследование неоднородности фронта травления макропор в тонких пластинах n-Si

А.А.Нечитайлов, Е.В.Астрова

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, С.-Петербург
E-mail: aan.shuv@mail.ioffe.ru

Поступило в Редакцию 16 ноября 2006 г.

Установлена причина появления куполообразного фронта травления макропор в тонких образцах кремния при фотоэлектрохимическом травлении в ячейке с кольцевым анодным контактом. Показано, что она связана с радиальным падением напряжения в подложке и уменьшением плотности тока в центральной части образца. Исследовано влияние внешнего напряжения на форму фронта. Предлагаются способы регистрировать возникновение неоднородности в процессе травления по изменению зависимости интенсивности подсветки образца от времени и изменению вольт-амперной характеристики. Обсуждается эффективность различных мер, позволяющих получить однородные по площади глубокие макропоры.

PACS: 82.45.Vp, 81.05.Rm, 82.47.Nj

 PDF версия (172Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2007, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster