Electron spin resonance study of surface and oxide interface spin-triplet centers on (100) silicon wafers
2018 , J. Appl. Phys., v.123, 16
ISSN: 0021-8979

Номер статьи: #161582
Авторы:Saito,H; Hayashi,S; Kusano,Y; Itoh,KM; Vlasenko,MP; Vlasenko,LS
Авторы (ФТИ):Vlasenko,MP; Vlasenko,LS
Подразделения: DOI:http://dx.doi.org/10.1063/1.5010816 Scopus® times cited:1 Scopus® ID:2-s2.0-85041413682 Web of Science® times cited:0 Web of Science® ID:WOS:000431147200112
Полный текст:http://dx.doi.org/10.1063/1.5010816