| Электронная версия | Другие журналы | Поиск | KOI | WIN | DOS |
|---|
Журнал основан в 1967 году.
Журнал публикует статьи и краткие сообщения по следующим направлениям физики и техники полупроводников: аморфные полупроводники, микро- и наноструктуры, дефекты и примеси, легирование и имплантация, радиационные эффекты, эпитаксия и рост тонких пленок, зонная структура полупроводников, транспортные явления, эффекты туннелирования, прикладные аспекты материаловедения.
Периодичность выхода в свет -- ежемесячно.
По соглашению с учредителями журнала перевод на английский язык осуществляет компания Pleiades Publishing, Ltd.
Распространение англоязычной версии журнала проводится компанией Springer Science + Business Media.
Выпуски журнала на русском и английском языках выходят в свет одновременно.
FIRST ANNOUNCEMENT25th International Conference on Defects in Semiconductors
|
Правила оформления публикаций (в формате PDF, 80KB)
Редакционная коллегия:
|
Адрес редакции:199034 Санкт-Петербург,Менделеевская линия 1. Тел.: (812) 328-3612. Адрес редакционной коллегии:194021 Санкт-Петербург,Политехническая ул., 26, Физико-технический институт им.А.Ф.Иоффе РАН. Тел.: (812) 292-7106. E-mail: semicond@mail.ioffe.ru |