8-9 сентября 2019 г. в Конгресс-холле отеля «Холидей Инн Московские ворота» прошла Международная научная школа «Физика и технология нитридных соединений», организованная ФТИ им. А.Ф. Иоффе.

В течение двух дней ведущие зарубежные эксперты из США, Германии, Франции и России прочитали десять 50-минутных лекций уровня приглашенных докладов на крупнейших международных конференциях в данной области. Среди более 60 слушателей школы были студенты, аспиранты и молодые ученые ФТИ, НИУ ИТМО, СПбГЭУ «ЛЭТИ», а также Индии, Китая и Японии. 

В центре внимания школы были эпитаксиальные технологии изготовления и фундаментальные свойства широкозонных А3-нитридов (AlGaN, BN и их твердых растворов) и гетероструктур на их основе. Был представлен скрупулезный теоретический анализ природы и свойств точечных дефектов в широкозонных полупроводниках. Обсуждались новые идеи и подходы в конструировании и изготовлении фотонных устройств различного типа, работающих в среднем и глубоком УФ-диапазонах.

Школа проводилась при поддержке РНФ (грант # 19-72-30040).