| Web of Science® | |
|---|---|
| ФТИ в 2000–24 гг. | |
| Статей | 25425 |
| Цитируемость | |
| суммарная | 326761 |
| на статью | 12,9 |
| Индекс Хирша | 169 |
| G-индекс | 286 |
| Scopus® | |
|---|---|
| ФТИ в 2000–24 гг. | |
| Статей | 28655 |
| Цитируемость | |
| суммарная | 364193 |
| на статью | 12,7 |
| Индекс Хирша | 180 |
| G-индекс | 304 |
Thermal lithography of thin films of vanadium dioxide
2016
, Tech. Phys. Lett., v.42, 1
ISSN: 1063-7850
Страницы:
19 - 22
Авторы:Andreev,VN; Klimov,VA; Kompan,ME
Авторы (ФТИ):Andreev,VN; Klimov,VA; Kompan,ME
Подразделения: DOI:http://dx.doi.org/10.1134/S1063785016010028 Scopus® times cited:0 Scopus® ID:2-s2.0-84962013238 Web of Science® times cited:0 Web of Science® ID:WOS:000373233800006
Полный текст:http://dx.doi.org/10.1134/S1063785016010028
Авторы:Andreev,VN; Klimov,VA; Kompan,ME
Авторы (ФТИ):Andreev,VN; Klimov,VA; Kompan,ME
Подразделения: DOI:http://dx.doi.org/10.1134/S1063785016010028 Scopus® times cited:0 Scopus® ID:2-s2.0-84962013238 Web of Science® times cited:0 Web of Science® ID:WOS:000373233800006
Полный текст:http://dx.doi.org/10.1134/S1063785016010028