|
Основные достижения 2022 годаРост гексагонального нитрида бора (hBN) на подложках карбида кремния методом сублимациилаб. электроники полупроводников с большой энергией связи (Мохова,ЕН)
лаб. спектроскопии твердого тела (Старухина,АН)
Продемонстрирована возможность роста с использованием метода высоко -температурной сублимации из газовой фазы гексагонального нитрида бора (hBN) высокого структурного совершенства на подложках гексагонального карбида кремния (SiC). В данной работе линейный размер выращенных образцов был ограничен только размерами подложки (15мм) (Рис.1), однако этот метод позволяет выращивать монокристаллы SiC диаметром до 4 дюймов. Полученные результаты указывают на перспективность использования данного метода для формирования в ходе одного технологического процесса высоко качественных гетероструктур hBN/SiC большой площади, которые имеют высокий потенциал для приборных применений. Методом ФЛ было установлено, что в процессе высокотемпературного роста монокристаллы hBN оказываются легированными примесью углерода (Рис.2). Дефекты, связанные с примесью углерода в hBN представляют интерес с точки зрения создания на их основе источников одиночных фотонов. Люминесценция таких дефектов в hBN является спин зависимой, что открывает перспективы их использования для квантовых технологий.
Иллюстрации
Работа выполнена в рамках Государственного задания, темы № 0040-2019- 0016 и 0040-2019-0006 Направление ПФНИ 1.3.2.4. Публикации
|
| |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
© 2005–2020 разработка и сопровождение: ОНТИ ФТИ им. А.Ф. Иоффе
|